Descrição dos produtos
POLY(VINYL CINNAMATE) é uma resina clássica fotossensível negativa. Sob irradiação ultravioleta, pode sofrer fotodimerização e reticulação de forma autônoma, sem a necessidade de fotoiniciadores adicionais.
Possui alta resolução, alta sensibilidade e forte adesão ao substrato. Após o desenvolvimento, raramente apresenta problemas como gel enrugado ou furos, e os padrões desenvolvidos são claros com excelente resistência ao ataque.
Especificação de produtos
| Nome do produto | POLI(CINAMATO DE VINIL) |
| Nº CAS | 9050-06-0 |
| ITEM NÃO | M900 |
| Aparência | Pó ou cristais brancos a castanhos claros |
| Peso molecular | 50,000 ~ 100,000 |
| Perda na secagem | Menor ou igual a 1,0% |
| Pacote | 10mg/1g/100g etc. |
| Entrega | 2-3 dias |
| Armazenar | temperatura ambiente |
| MSDS/COA/TDS | Conecte-nos |
Aplicação de Produtos
1.Semicondutores e microeletrônica: matéria-prima para fotorresistente negativo, usada para micropadronização de wafers e chips.
2. Indústria de PCB: Fabricação de placas de fotolitografia para placas de circuito impresso para fabricar circuitos finos.
3. Tela plana: Fotolitografia e processamento de micropadrões para componentes de exibição de precisão.
4. Hardware de precisão e microfabricação: gravação em metal e preparação de máscara de precisão para formação de padrões finos.
5. Laboratórios Acadêmicos e de Pesquisa: Pesquisa fundamental em fotolitografia e experimentos com materiais fotossensíveis.
Perguntas frequentes
P: O poli (cinamato de vinil) precisa de fotoiniciador?
R: Não. É uma resina fotossensível negativa e pode sofrer reticulação de fotodimerização diretamente sob irradiação UV.
P: O poli (cinamato de vinil) é solúvel em água?
A: Insolúvel em água, solúvel em solventes orgânicos cetona e éster.
P: Quais são os requisitos de proteção contra luz para armazenamento?
R: Armazene em recipiente fechado e protegido da luz. Evite a exposição UV que causa reticulação prematura.
P: Para qual processo de litografia este produto é adequado?
R: Aplica-se à litografia fotorresistente negativa. As áreas expostas reticulam e curam, e os padrões expostos permanecem após o desenvolvimento.
P: Os defeitos de rugas ou orifícios são comuns após o desenvolvimento?
R: Este produto apresenta alta sensibilidade e forte adesão. Poucas rugas e furos aparecem sob condições de processo adequadas.
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