Descrição dos produtos
PEES (pEES) carrega um grupo protetor etoxietoxi lábil em ácido, que pode ser rapidamente desprotegido sob catálise ácida. Possui boa estabilidade térmica e impurezas metálicas ultrabaixas. Pode ser polimerizado para preparar poli-hidroxiestireno (PHS) para fotorresiste KrF amplificado quimicamente de alta resolução.
Especificação de produtos
| Nome do produto | PEES/4-(Etoxietoxi)estireno |
| Nº CAS | 157057-20-0 |
| ITEM NÃO | M120 |
| Aparência | Líquido transparente incolor |
| Pureza | Maior ou igual a 99% |
| Conteúdo de água | Menor ou igual a 0,05% |
| Impurezas de íons metálicos | Menor ou igual a 1 ppb |
| Pacote | 100g/1kg/10kg etc. |
| Entrega | 2-3 dias |
| Armazenar | temperatura ambiente |
| MSDS/COA/TDS | Conecte-nos |
Aplicação de Produtos
PEES (p- (1-etoxietoxi) estireno) é usado principalmente para síntese de resina fotorresistente KrF em microeletrônica de semicondutores, materiais poliméricos funcionais e indústria de P&D de novos materiais avançados.
Perguntas frequentes
P: Quais são os requisitos de armazenamento do PEES?
A: Estabilizado com inibidor de TBC. Armazene selado a 2 ~ 8 graus de distância da luz. Isole o ar e a fonte de calor para evitar a autopolimerização do vinil e a desproteção prematura pelo ácido.
P: Qual é o princípio do monômero PEES no sistema de resina fotorresistente KrF?
R: PEES contém grupo protetor etoxietoxi sensível a ácido. O fotoácido gerado após a exposição à litografia desencadeia a desproteção. A resina muda de insolúvel em álcali para solúvel em álcali para realizar o desenvolvimento do padrão de wafer.
P: Que proteção é necessária para a operação do PEES de acordo com a SDS?
R: Irrita os olhos, a pele e o trato respiratório. A operação deve ser realizada em capela com óculos de proteção, luvas resistentes a solventes e protetor facial.
P: Qual é a principal diferença entre monômeros fotorresistentes PEES e pACS/PTBS?
R: PEES possui grupo protetor etoxietoxi com rápida taxa de desproteção ácida. pACS precisa de hidrólise para desproteção, PTBS possui grupo terc-butoxi. Eles são projetados para diferentes sensibilidades fotorresistentes.
P: O que acontece com o grupo protetor lábil ao ácido do monômero PEES durante a exposição ao fotorresistente KrF?
R: O fotoácido é gerado após a exposição. O grupo protetor etoxietoxi cliva rapidamente. O polímero se transforma em estrutura hidroxila fenólica, mudando de insolúvel em álcali para solúvel em álcali para o desenvolvimento do padrão litográfico.
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